拿电视这种使用寿命长达8年以上家电来说，架设就必须买大牌的，才能保质保量，否则用不了几年就换了，看似买时便宜一些，实际吃亏的还是自己。
随着温度升高，覆盖Pca21相逐渐演化为高温稳定相P42/nmc，与此对应，材料出现铁电性到反铁电性的转变，见图3。除了生长参数，高压外界激励，如温度、电场均会影响HfO2多晶薄膜相结构及铁电性。
对于ALD法制备的多晶膜，电网的剩余极化强度（Pr）一般与薄膜厚度成反比，维持铁电性一般需要薄膜厚度小于50nm。示意图1 HfO2薄膜在不同生长参数或外部激励作用下的相结构演化与铁电性能©2022TheAuthors二、信网【成果掠影】近日，信网澳大利亚悉尼大学廖晓舟教授（共同通讯作者）课题组的博士研究生赵豆（第一作者），和香港理工大学陈子斌助理教授（共同通讯作者）在国际期刊Microstructures上发表了题为MicrostructuralevolutionandferroelectricityinHfO2 films的综述。这个问题最终被中科院微电子所的研究人员突破，架设他们利用球差校正的扫描透射电子显微镜（STEM），架设分别通过高角环形暗场（HAADF）及环形明场(ABF)成像技术，实现锆（Zr）掺杂的HfO2（Hf0.5Zr0.5O2，HZO）薄膜铁电相的Hf/Zr及O原子阵列成像，见图1（d-e）,确定了Pca21相是其中一种铁电相。
HfO2 铁电薄膜具有显著的唤醒效应，覆盖这种现象与电场作用下多晶膜内部相变、缺陷重新分布、以及极化电荷注入均有关系。当超过某个浓度，高压P42/nmc相（反铁电相）占主导，见图2（b）。
在外延薄膜中，电网的铁电相可以通过薄膜与衬底的外延晶格失配应力稳定。
图6 HZO外延膜结构及薄膜与衬底LSMO/STO的外延取向关系 ©2022TheAuthors表2. 多晶和外延HfO2薄膜铁电性能对比 ©2022TheAuthors五、信网【成果启示】最后，信网作者展望了HfO2铁电薄膜研究中仍存在的科学问题。架设两种方法均被证明在调节电荷向O的转移以及HER性能的变化中起关键作用。
覆盖制备出多种具有特殊功能的仿生超疏水界面材料。高压2014年以成果低维光功能材料的控制合成与物化性能获国家自然科学奖二等奖(第一获奖人)。
电网的2015年获何梁何利基金科学与技术进步奖。信网2015年获第三届中国国际纳米科学技术会议奖。
